出 售 信 息
2014/3/12 11:24:58
我公司闲置的JCPF-2000磁控溅射直线镀膜机（见下图），虽已使用多年，但使用性能尚好。现拟打折出售，有预购者联系电话：13904339577。
一. 设备简介
设备以磁控溅射为主体，由真空系统、镀膜室、磁控溅射靶、直线往返运动基片台、水冷系统、工作气体供应、调控系统等部分组成。主要用于沉积金属膜。
1. 镀膜室：采用不锈钢箱式结构，顶部与底部安装直线导轨，顶部安装真
空测量、工作气体接口及压强调控仪接口。镀膜室正面有三个门，中门内侧并列两个磁控溅射靶（简称磁控靶）；
2. 真空系统：由2台分子泵(1500升/分钟)、2台机械泵(12升/分钟)、主阀、前级阀组成。真空测量采用数字式复合真空计，测量范围至10-5 Pa；
3. 磁控溅射靶：是该设备的核心部件，采用矩形平面靶；
4. 基片台：安装在两个磁控溅射靶对面，可平行两个磁控溅射靶做左右往返运动，有助于提高膜层均匀性；
5. 电气控制台：包括真空系统控制、真空测量、磁控靶、电源、基片台运动、工作气体控制。控制台上每个开关（按钮）控制功能等均有文字注明。
二. 设备技术参数：
1. 极限真空：8x10-5Pa；
2. 恢复抽真空时间：（从大气至10-4Pa）≤30分钟；
3. 漏气率：5x10-10PaL/S；
4. 真空室尺寸：2000mm X 240mm X 750mm；
5. 靶材尺寸：557mm X 100mm X δ6mm；
靶功率密度：5-15W/cm2 ；
6. 基片台移动速度：0-3cmm/s；
7. 气体流量控制范围：50、200sccm。
长春中俄科技园股份有限公司
2014年3月12日
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